Entwicklungsvereinbarung zwischen Photronics und ASML / Forschungsarbeiten zur Entwicklung von Retikeln für 0,10-Micron Abbildungstechnologien

Jupiter, Fla., 13. Juni 13 (ots-PRNewswire) - Photronics, Inc.
(Nasdaq: PLAB), der weltweit führende Lieferant von Fotomasken und
ASML (Nasdaq: ASML; AEX), einer der globalen Marktführer für moderne
Lithografiesysteme, die für die Herstellung von integrierten
Schaltkreisen von Bedeutung sind, kündigten eine gemeinsame
Entwicklungsvereinbarung an. Diese Vereinbarung bezieht sich auf die
Entwicklung moderner Retikel für den Support der früheren
Charakterisierungsarbeiten zu den modernsten Lithografiesystemen von
ASML. Die Retikel werden dazu verwendet, Waferergebnisse für
248-Nanometer-Systeme und 193-Nanometer-Systeme von ASML auszuwerten.
Performancedaten für die Retikel, aber auch für die entsprechenden
Lithografiesysteme sollen in den Anlagen von Photronics, ASML und
IMEC gesammelt werden. Auch die Tochtergesellschaft MaskTools von
ASML wird ihre Sach- und Fachkenntnisse in das gemeinsame Unternehmen
einbringen. MaskTools bietet eine Reihe von optischen
Erweiterungstechnologien an, die die Bearbeitungsbreite des
Fotolithografieprozesses vergrößert und die IC-Ausbeute im
Herstellungsprozeß erhöht. Photronics und ASML sind Mitglieder des
IMEC, des führenden unabhängigen europäischen Forschungszentrums für
die Entwicklung und Lizensierung der modernsten
Mikroelektroniktechnologien. Modalitäten der Finanzierung wurden
nicht bekanntgegeben.

ASML wird Retikelstrukturen für Linien, Zwischenräume und
Kontaktlöcher liefern, die zur Systemcharakterisierung benötigt
werden. Diese Strukturen werden auf Retikeln abgebildet, die vom
Forschungs- und Entwicklungsteam von Photronics hergestellt werden.
Dabei werden die modernsten Lithografiewerkzeuge und -verfahren des
Unternehmens angewendet, die in Erweiterung der Prozeßfamilien der
Sub-Wavelength Reticle Solutions(TM)(SRS)von Photronics entwickelt
worden sind. Die SRS-Produktfamilien von Photronics konzentrieren
sich auf divergierende Lithografiestrategien, die von den
Halbleiterproduzenten angewendet werden, die mit dem folgenden
Problem befasst sind: Abbildung von Strukturen auf den Wafer, die
kleiner als die Wellenlänge des zu ihrer Belichtung verwendeten
Lichtes sind. Es gibt gegenwärtig drei SRS-Produktfamilien für
fortgeschrittene optische Proximitykorrekturen und für
Phasenverschiebungsanwendungen. Zu Beginn der Umsetzung der
Entwicklungsvereinbarung zwischen Photronics und ASML erfolgt eine
Konzentration auf Binärchrom auf Quarzretikeln, bei denen ein
modernes optisches Scattering Bar Enhancement verwendet wird, wie es
z.B. bei dem Produkt "MaskRigger" von ASML MaskTools realisiert ist.
Die genannten Aktivitäten sollen auf die Bereiche der eingebetteten
abgeschwächten Phasenverschiebung und der Ätzquarzphasenverschiebung
erweitert werden.

"Da die Strukturgrößen von Halbleitern ein gutes Stück unterhalb
der Wellenlänge des verwendeten Lichtes liegen, wird auch die
Abhängigkeit zwischen den Elementen des Waferlithographieprozesses in
zunehmendem Maße sensitiv. Die genannten Ziele bietet unserem
Unternehmen die Möglichkeit,
eine wichtige Rolle beim Verständnis und bei der Optimierung der
Retikel in der neuen und weitaus komplexeren Umgebung zu spielen.
Darüber hinaus wird uns der frühzeitige Zugang zu Waferergebnissen
die Möglichkeit geben, unsere urheberrechtlich geschützten
Prozeßtechnologien weiter zu verfeinern. Das wiederum ermöglicht
einen nahtloseren Übergang zu den Waferlithografiesystemen der
nächsten Generation, die zur Herstellung von Strukturgrößen im
Bereich unter 0,18 Mikron erforderlich sind," so Steve Carlson,
Senior Vice President of Technology bei Photronics. "Die
Zusammenarbeit mit Marktführern wie ASML bei frühzeitigen
Forschungsarbeiten zur Charakterisierung der modernsten Systeme ist
eine hervorragende Chance für unsere FE-Organisation," ergänzte er.

Bill Arnold, Executive Scientist bei ASML, stellte fest: "Die Tage
der Retikel als Ware sind vorüber und sämtliche Bestandteile des
Lithografiesystems müssen zwecks Erzielung eines gelungenen
Waferbildes zur höchsten Performance gebracht werden. Die
Zusammenarbeit mit Firmen wie Photronics gibt uns die Hoffnung auf
ein vertiefteres Verständnis der Retikel und ihrer Integration in
unsere sonstigen optischen Systeme. Damit beschleunigen wir die
erfolgreiche Implementierung der 0,10-Mikronknoten-Lithografiesysteme
bei unseren gemeinsamen Kunden."

Photronics ist ein weltweit führender Produzent von Fotomasken.
Fotomasken sind Hochpräzisionsquarzplatten, die mikroskopische Bilder
von elektronischen Schaltkreisen enthalten. Als Schlüsselelement bei
der Herstellung von Halbleitern werden Fotomasken dazu verwendet,
Schaltkreisstrukturen während der Herstellung von integrierten
Schaltkreisen auf Halbleiterwafer zu übertragen. Fotomasken werden in
Übereinstimmung mit den Schaltkreisentwürfen gefertigt, die von den
Kunden in strategisch positionierten Produktionsanlagen in Asien,
Europa und Nordamerika bereitgestellt werden. Zusätzliche
Informationen über die Firma finden Sie unter
http://www.photronics.com.

Die 1984 gegründete Firma ASML ist ein globaler Marktführer im
Bereich der modernen Lithographiesysteme, die bei der Herstellung
integrierter Schaltkreise von Bedeutung sind. ASML wird als
Aktiengesellschaft unter dem Symbol "ASML" sowohl an der Amsterdamer
Börse als auch an der Technologiebörse Nasdaq gehandelt. Für weitere
Informationen besuchen Sie die Website der Firma unter
http://www.asml.com.

"Safe Harbor" Statement unter dem Private Securities Litigation
Reform Act von 1995: Mit Ausnahme von historischen Informationen sind
die in der vorliegenden Pressemitteilung gemachten Aussagen als
Aussagen für die Zukunft anzusehen. Diese Aussagen unterliegen
gewissen Risiken und Unsicherheiten, die dazu führen können, daß sich
die tatsächlichen Ergebnisse wesentlich von den geplanten Ergebnissen
unterscheiden. Eingeschlossen hierbei sind Risiken auf dem Markt, bei
der Preisbildung, bei Beschaffung und Produktion sowie weitere
Risiken, die in den SEC-Reports der Firma ausführlich beschrieben
werden. Die Firma verpflichtet sich nicht dazu, die in der
vorliegenden Mitteilung enthaltenen Informationen zu aktualisieren.

ots Originaltext: Photronics
Im Internet recherchierbar: http://recherche.newsaktuell.de

Rückfragen bitte an:
Michael W. McCarthy, Director - Investor Relations & Corporate
Communications of Photronics, 203-775-9000,
mmccarthy@brk.photronics.com
Website: http://www.photronics.com
http://www.asml.com

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