Avant! stellt die ersten dreidimensionalen TCAD Process- und Device Tools der Industrie vor / Neue Tools für die Simulation sagen physische Phänomene in "Very Deep Submicron Devices" voraus=

Fremont/Kalifornien (ots-PRNewswire) - Die Avant! Corporation
(Nasdaq: AVNT) stellte heute Taurus-Process und Taurus-Device der
Öffentlichkeit vor, neue TCAD Simulations-Tools, die den Entwicklern
von Halbleitern erlauben, sowohl komplexere
Wafer-Verarbeitungschritte als auch strukturelle und elektrische
Eigenschaften der Geräte genau vorherzusagen. Die Tools von
Taurus-Process und Taurus-Device bearbeiten Modelle fortgeschrittener
Halbleiter in einer, zwei und drei Dimensionen.

"Zusätzlich zum Gebrauch des ausgereiftesten Software-Designs und
der Architektur ziehen Taurus-Process und Taurus-Device ihren Vorteil
aus den robusten numerischen Algorithmen und den akkuraten
physikalischen Modellen, die mit TSUPREM-4 und Medici zu erreichen
sind, um Geräteeigenschaften in 1D, 2D, und 3D genau vorherzusagen,"
sagte Dr. Chi-Ping Hsu, CEO für Produkte bei Avant!. "Die Kombination
von TSUPREM-4, Medici, Taurus-Process und Taurus-Device kann
Ingenieure dabei unterstützen, vorhandene und zukünftige Technologien
zu optimieren. Demzufolge können Hersteller von Integrated Circuits
die Produktivität in der Entwicklung steigern, die Entwicklungskosten
und den zeitlichen Zyklus reduzieren sowie den Gewinn steigern," fuhr
Chi-Ping Hsu fort.

Die minimalsten Bestandteile von Transistoren noch weiter zu
verkleinern, stellt die größte Herausforderung dar, denen Ingenieure
von Halbleitern gegenüberstehen. In dem Maße, in dem die Bestandteile
schrumpfen, können Halbleiter-Ingenieure die 3D-Effekte nicht
ignorieren, die in Shallow Trench Isolation (STI)-Designs, Narrow
Width Devices usw. auftreten. Außerdem werden bereits innovative
Entwürfe für etwa Single Electron Transistors in Submikro-Bereichen
unterhalb 0,1u untersucht. Eine genaue TCAD Simulation ist notwendig,
um die physikalischen Phänomene in solch fortgeschrittenen Geräten
vorherzusagen und zu verstehen, um ihre Leistung zu maximieren.

Mehr über Taurus Tools

Zu den neusten Trends in TCAD gehören die Übertragung der
physischen Modelle auf mehrere Systeme (Modell-Portabilität), die
mehrdimensionale Simulation der Geräte und der Herstellung,
Hochleistungs-Computing, fortgeschrittene automatische
Mesh-Generierung und Moving-Boundary in 3D für die Prozesse der
Oxidation und Silicidation. Zu den neuen Simulations-Tools von Avant!
für Entwicklung und Geräte gehört ein objektorientiertes
Modellierungsprogramm, das die höchst entwickelten Methoden
verwendet, die für numerische Algorithmen, physische Modelle und
Software-Design erhältlich sind.

Taurus-Process ist der erste Simulator für die
Herstellungssimulation in 1D, 2D und 3D, der käuflich zu erwerben
ist. Die Simulation von 3D-Effekten ist notwendig geworden, um den
Herstellungsprozeß und den Betrieb von allerneuesten
Halbleiter-Geräten zu untersuchen. Mit Taurus-Process kann ein
kompletter Herstellungsvorgang, inklusive Implantation, Oxidation,
Diffusion, Silicidation, Deposition und Ätzung, simuliert werden.
Taurus-Device, das auf der gleichen Plattform aufbaut, kann diese
Prozeß-Strukturen verwenden, um deren elektrische Eigenschaften zu
simulieren. Eine effiziente und automatische Mesh-Generierung
erleichtert die Simulationsverarbeitung in Taurus. Drei Pakete für
fortgeschrittene Mesh-Generierung, die adaptive Verfeinerung und
Vergröberung beinhaltet, sind innerhalb von Taurus erhältlich. Diese
Pakete ermöglichen die einfache und genaue Simulation der
komplexesten Geräte.

Fachmännisches Design und die Optimierung fortgeschrittener Geräte
setzt das Verständnis außergewöhnlicher physikalischer Phänomene
voraus. Taurus-Process und Taurus-Device haben ein "Physical Model
and Equation Interface" (PMEI), das einen einfachen und flexiblen Weg
bietet, neue physikalische Modelle in der Simulation zu definieren.
PMEI gibt den Entwicklern die Möglichkeit, das vorhandene Wissen über
Silizium zu verwenden und die Geräteeigenschaften so früh
vorherzusagen.

Eine Vorführung von Taurus-Process und Taurus-Device wird auf der
Design Automation Conference (DAC), die in San Francisco vom 15.-18.
Juni stattfinden wird, zu sehen sein.

Über Avant!

Die Avant! (gesprochen "Avanti") Corporation entwickelt,
vermarktet und unterstützt die Integrated Circuit Design Automation
(ICDA) Software für die Simulation, das Layout, den Nachweis und die
Analyse von Deep Submicron ICs - einschließlich Mikroprozessoren,
Mikrosteuerung, den Application-Specific Standard Products (ASSPs),
und komplexer Application-Specific Integrated Circuits (ASICs). Der
Hauptsitz des Unternehmens liegt in Fremont im US-Bundesstaat
Kalifornien, mit Vertretungen in der ganzen Welt.
Tel: 001-510-413-8000,
Fax: 001-510-413-8080. Im Internet: www.avanticorp.com.

Hinweis: Avant!, Taurus Process und Taurus-Device sind
Warenzeichen der Avant! Corporation. Alle weiteren hier erwähnten
Firmen- und Produktnamen sind Warenzeichen oder eingetragene
Warenzeichen ihrer jeweiligen Eigentümer und sollten als solche
behandelt werden.

ots-Originaltext: Avant! Corporation Im Internet:
http://www.newsaktuell.de

Rückfragen bitte an: Greg Fawcett, Public Relations,
Tel. 001-510-413-8022, Email gregf@avanticorp.com oder Chi-Ping Hsu,
Produkte und Technologie,
Tel. 001-510-413-8000, Email chip@avanticorp.com, beide von Avant!
Webseite des Unternehmens: http://www.avanticorp.com

Rückfragen bitte an News Aktuell Tel.: +49 40 4113-2850

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