Avant! stellt die ersten dreidimensionalen TCAD Process- und Device Tools der Industrie vor / Neue Tools für die Simulation sagen physische Phänomene in "Very Deep Submicron Devices" voraus

Fremont/Kalifornien (ots-PRNewswire) - Die Avant! Corporation (Nasdaq: AVNT) stellte heute Taurus-Process und Taurus-Device der Öffentlichkeit vor, neue TCAD Simulations-Tools, die den Entwicklern von Halbleitern erlauben, sowohl komplexere Wafer-Verarbeitungschritte als auch strukturelle und elektrische Eigenschaften der Geräte genau vorherzusagen. Die Tools von Taurus-Process und Taurus-Device bearbeiten Modelle fortgeschrittener Halbleiter in einer, zwei und drei Dimensionen.

"Zusätzlich zum Gebrauch des ausgereiftesten Software-Designs und der Architektur ziehen Taurus-Process und Taurus-Device ihren Vorteil aus den robusten numerischen Algorithmen und den akkuraten physikalischen Modellen, die mit TSUPREM-4 und Medici zu erreichen sind, um Geräteeigenschaften in 1D, 2D, und 3D genau vorherzusagen," sagte Dr. Chi-Ping Hsu, CEO für Produkte bei Avant!. "Die Kombination von TSUPREM-4, Medici, Taurus-Process und Taurus-Device kann Ingenieure dabei unterstützen, vorhandene und zukünftige Technologien zu optimieren. Demzufolge können Hersteller von Integrated Circuits die Produktivität in der Entwicklung steigern, die Entwicklungskosten und den zeitlichen Zyklus reduzieren sowie den Gewinn steigern," fuhr Chi-Ping Hsu fort.

Die minimalsten Bestandteile von Transistoren noch weiter zu verkleinern, stellt die größte Herausforderung dar, denen Ingenieure von Halbleitern gegenüberstehen. In dem Maße, in dem die Bestandteile schrumpfen, können Halbleiter-Ingenieure die 3D-Effekte nicht ignorieren, die in Shallow Trench Isolation (STI)-Designs, Narrow Width Devices usw. auftreten. Außerdem werden bereits innovative Entwürfe für etwa Single Electron Transistors in Submikro-Bereichen unterhalb 0,1u untersucht. Eine genaue TCAD Simulation ist notwendig, um die physikalischen Phänomene in solch fortgeschrittenen Geräten vorherzusagen und zu verstehen, um ihre Leistung zu maximieren.

Mehr über Taurus Tools

Zu den neusten Trends in TCAD gehören die Übertragung der physischen Modelle auf mehrere Systeme (Modell-Portabilität), die mehrdimensionale Simulation der Geräte und der Herstellung, Hochleistungs-Computing, fortgeschrittene automatische Mesh-Generierung und Moving-Boundary in 3D für die Prozesse der Oxidation und Silicidation. Zu den neuen Simulations-Tools von Avant! für Entwicklung und Geräte gehört ein objektorientiertes Modellierungsprogramm, das die höchst entwickelten Methoden verwendet, die für numerische Algorithmen, physische Modelle und Software-Design erhältlich sind.

Taurus-Process ist der erste Simulator für die Herstellungssimulation in 1D, 2D und 3D, der käuflich zu erwerben ist. Die Simulation von 3D-Effekten ist notwendig geworden, um den Herstellungsprozeß und den Betrieb von allerneuesten Halbleiter-Geräten zu untersuchen. Mit Taurus-Process kann ein kompletter Herstellungsvorgang, inklusive Implantation, Oxidation, Diffusion, Silicidation, Deposition und Ätzung, simuliert werden. Taurus-Device, das auf der gleichen Plattform aufbaut, kann diese Prozeß-Strukturen verwenden, um deren elektrische Eigenschaften zu simulieren. Eine effiziente und automatische Mesh-Generierung erleichtert die Simulationsverarbeitung in Taurus. Drei Pakete für fortgeschrittene Mesh-Generierung, die adaptive Verfeinerung und Vergröberung beinhaltet, sind innerhalb von Taurus erhältlich. Diese Pakete ermöglichen die einfache und genaue Simulation der komplexesten Geräte.

Fachmännisches Design und die Optimierung fortgeschrittener Geräte setzt das Verständnis außergewöhnlicher physikalischer Phänomene voraus. Taurus-Process und Taurus-Device haben ein "Physical Model and Equation Interface" (PMEI), das einen einfachen und flexiblen Weg bietet, neue physikalische Modelle in der Simulation zu definieren. PMEI gibt den Entwicklern die Möglichkeit, das vorhandene Wissen über Silizium zu verwenden und die Geräteeigenschaften so früh vorherzusagen.

Eine Vorführung von Taurus-Process und Taurus-Device wird auf der Design Automation Conference (DAC), die in San Francisco vom 15.-18. Juni stattfinden wird, zu sehen sein.

Über Avant!

Die Avant! (gesprochen "Avanti") Corporation entwickelt, vermarktet und unterstützt die Integrated Circuit Design Automation (ICDA) Software für die Simulation, das Layout, den Nachweis und die Analyse von Deep Submicron ICs - einschließlich Mikroprozessoren, Mikrosteuerung, den Application-Specific Standard Products (ASSPs), und komplexer Application-Specific Integrated Circuits (ASICs). Der Hauptsitz des Unternehmens liegt in Fremont im US-Bundesstaat Kalifornien, mit Vertretungen in der ganzen Welt.
Tel: 001-510-413-8000,
Fax: 001-510-413-8080. Im Internet: www.avanticorp.com.

Hinweis: Avant!, Taurus Process und Taurus-Device sind Warenzeichen der Avant! Corporation. Alle weiteren hier erwähnten Firmen- und Produktnamen sind Warenzeichen oder eingetragene Warenzeichen ihrer jeweiligen Eigentümer und sollten als solche behandelt werden.

ots-Originaltext: Avant! Corporation Im Internet:
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Tel. 001-510-413-8022, Email gregf@avanticorp.com oder Chi-Ping Hsu, Produkte und Technologie,
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