Cymer stellt neuen ELS-6010 KrF Excimer-Laser für die nächste Generation von DUV-Lithographie für 130-nm-Konfiguration und darunter vor

San Diego (ots-PRNewswire) - Der weltweit erste Produktions-DUV-Laser mit einer Grundfrequenz von 2500 Hz

Cymer, Inc. (Nasdaq: CYMI), der weltweit führende Anbieter von Excimer-Laser-Lichtquellen, die für Deep-UV-Photolithographie von Bedeutung sind, hat heute die neueste Ergänzung seiner hochentwickelten Palette an Lithographie-Lichtquellen vorgestellt:
den ELS-6010. Mit einer Frequenz von 2500 Hz ist der ELS-6010 weltweit der KrF-Produktionslaser mit der höchsten Grundfrequenz. Mit einer Wellenlänge von 248 nm wird der ELS-6010 ein wesentliches Element für die Produktion von Geräten der nächsten Generation mit 130 nm (0,13 micron) Konfiguration und darunter sein und somit dazu beitragen, dass Cymer in diesem Produktbereich weiterhin führend bleibt.

Nach Aussage von Pascal Didier, Cymers leitenden Vizepräsidenten der weltweiten Kundengeschäfte, forderte der fortlaufende Trend nach immer komplexeren Halbleitern für das Betreiben der Verbraucherelektronik von heute und morgen bessere Abbildungsmöglichkeiten für Stromkreise mit äußerst kurzen Wellenlängen. "Mit der Lichtquelle, die für die Abbildung der feineren Zeilenbreiten für diese leistungsstarken Chips erforderlich ist, wird es durch den ELS-6010 für die Chiphersteller möglich, die stetig wachsende Nachfrage nach kleineren, schnelleren, besseren Halbleitern zu befriedigen. Cymers nachweisliche technische Erfahrung mit der Wellenlänge 248 nm ermöglicht es dem Unternehmen zusammen mit seiner umfassenden Service- und Support-Infrastruktur, die mehr als 35 Standorte weltweit umspannt, seine Position als führender und bevorzugter Lieferant für hochentwickelte Lichtquellen-Lösungen der Industrie zu festigen," so Didier.

Auf dem richtungsweisenden ELS-6000 basierend, ist der ELS-6010 darauf ausgerichtet, volle Abbildungsmöglichkeit für 200 mm und 300 mm Lithographie-Stepper und -Scanner mit einer numerischen Linsenöffnung > 0,7 zu bieten. Der ELS-6010 bietet dieses höhere Niveau spektraler Leistung durch eine sehr eng- linige Bandbreite von höchstens 0,5 pm bei voller Breite und halbem Höchstwert (FWHM) und höchstens 1,4 pm bei 95 Prozent Energieintegral; außerdem bietet er eine wesentlich bessere Leistung der Dosierungsstabilität bei höchstens +/- 0,35 Prozent.

Der ELS-6010 enthält zahlreiche technische Neuentwicklungen, z.B. eine neue Hochspannungsstromversorgung, Laser-Entladekammer und Wellenlängen-Stabilisierungsmodul, so dass er der DUV-Laser mit der weltweit höchsten Grundfrequenz ist. Verglichen mit 2000 Hz Lasern bietet der ELS-6010 mit seinen 2500 Hz 25 Prozent mehr Impulse in einer einzigen Belichtung, wodurch letztendlich die Dosierungsstabilität der Energie am Wafer für eine höhere Aussteuerung der kritischen Dimension und für ein besseres Ergebnis verstärkt wird. Außerdem kann der ELS-6010 auf Grund seiner verbesserten Wärmehandhabung vollen 20-Watt-Betrieb bei unbegrenztem Geräteeinsatz liefern.

Führungskräfte von Cymer werden für eine Erläuterung der Vorteile des ELS 6010 bei der SEMICON Europa, die vom 4. April bis zum 6. April im neuen Münchner Messezentrum in München, Deutschland stattfindet, am Stand A3.174 zur Verfügung stehen.

Cymer, Inc. ist der weltweit führende Anbieter von Excimer-Laser-Lichtquellen, der wesentlichen Lichtquellen für Deep-UV-Photolithographiesysteme. DUV-Lithographie ist die wesentliche Technik, die es der Halbleiterindustrie ermöglicht hat, genau die Spezifikationen und Herstellungsanforderungen zu erzielen, die für eine Massenproduktion der hochentwickelten Halbleiterchips von heute erforderlich sind. Cymer hat erst vor kurzem die Installierung seines 1.000sten DUV-Lasers im Werk eines Chipherstellers gemeldet.

Weitere Informationen zu Cymer sind zu erhalten in den Unterlagen der Börsenaufsichtsbehörde über das Unternehmen, über die Internet-Adresse ( http://www.cymer.com ) oder durch direkte Kontaktaufnahme mit dem Unternehmen.

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